제 품

양산 제품

개발 완료

RSPV

RSPV-N2

RSV

PV

H-Jarket 등

Hot N2

외 형

주 거래선

EDWARDS, EBARA, LOT, PFEIPPER, KKT, SK hynix

SK hynix

자체 평가 完필드 평가 대기 중

적용 공정

Diffusion 21스텝
Thin film 15스텝Etch 7스텝
IMP.
CNC

Diffusion
(LP TEOS, LTO,
ZrO2)
Thin film
(PE-SiH4/TEOS,
W-Nitride)

Etch

Diffusion 15공정
(Batch type)
T/F 3공정
IMP. 1공정

Gas Line
Vacuum Line
Fore Line

모든 Pump에
적용 가능

특 징

※ 특허권 보유 (차단 방법 등)

•Teflon 재질

•Compact 구조
- (PCB 자체 제작)

•유체 인입부에
- 흡입 가능 구조

•N2 Gas 온도 Control 가능

•PID 제어 기능
- 지원

•통신출력 (RS422/RS485)
- 선택 가능

•역압 차단 기능밸브 차단 속도
- (＜0.2초 이내)

•수직 단거리로
- 차단

•Leak Free로
- 가공 중 Wafer
- 보호

•N2 Barrier로
- Powder 적층
- 및 부식 Gas
- 유입 차단

•RSPV에서 Powder Protection기능
- 제외하여 가격
- 경쟁력 높임

•압력차 차단판
- 자기부양으로
- Chamber 오염
- 보호

•Angle값 변화
- 없음

•Foot Print 작음